銅離子濃度監控儀
笠原理化 KRK/日本
Merchandise number：Cu-800
Description：
- 護國神山及各大半導體大廠-液中求銅指定用機
- 可測定液體中高濃度的銅濃度至 0-80g/L
- 適用於高溫液體樣本，耐溫條件最高可到 90℃
- 不受液體中硫酸或雙氧水成分干擾
- 光源光量變化自動補正，不受光量變化影響
- 自動溫度補正，不受溫度變化影響
- 3段範圍切換 0-20/0-50/0-80g/L
- 全機日本原廠KRK製造，高品質保證
- 日澤總代理，日本 KRK 原廠直接供應
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提供製程電解液濃度最佳的監控解決方案
隨著 ESG 趨勢的發展下，建立銅離子的回收系統對半導體產業來說是有其必要。Cu-800 適用於電解銅箔製程(溶銅製程、表面處理製程)、銅箔電解液濃度、電鍍廢液、洗滌廢水的銅離子濃度電解回收濃度監控，高精準度監測設備，低運作成本。
儀器使用示意圖
除了槽體濃度監測，也可串動加藥系統做自動化即時監控。詳細資訊與工程規劃，歡迎聯繫我們!
儀器介面及功能
產品規格
左右尚有資訊| 儀器型號 | Cu-800 | |
| 測定原理 | 吸光光度法 (內嵌型測定) | |
| 測定範圍 | 高濃度：0.00~80.0g/l(Cu) 低濃度：0.00~20.00g/l(Cu) 硫酸銅：0~300g/l(Cu) |
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| 最小讀值 | 高濃度：0.1g/l 低濃度：0.01g/l 硫酸銅：1g/l |
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| 精確度 | ±2%以下 | |
| 環境溫度 | 0~40℃以下 85%RH以下 | |
| 輸出訊號 | DC 4~20mA 標準(絕緣型)、負載電阻250~500Ω | |
| ※訊號輸出：指定RS-232C | ||
| ※4~20mA：訊號輸出線材為標準5m，附Y 端子 | ||
| ※另售品：RS-232C 輸出時，附專用接頭線材（最大10m） | ||
| SPAN 校正 | 標準液（或配合水樣的實驗室分析値） | |
| 電源電壓 | AC100/110V，線材5m，附三孔插座 | |
| 電極型號 | 高濃度用：CUD-3C | |
| 低濃度用：CUD-10C | ||
| 溫度補償 | 半導體溫度測定器自動溫度補償 | |
| 水樣條件 | 水樣壓力：0.2MPa 以下 | 水樣溫度：80℃以下 |
| 管線規格 | φ6×φ4 PP 管線 | |
產業應用
電解銅箔製程(溶銅製程、表面處理製程) 之電解液濃度監控
製程硫酸銅藥液濃度進料監控、電解回收銅離子濃度監測